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原理图如上~
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这时候,原来的那张玻璃板上面,就沉积上一层膜了,接下来开始光刻工艺,在膜上“雕花”
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涂胶-曝光-显影,这三步合称光刻工艺
涂胶:在基板上涂一层光刻胶(树脂、感光剂、添加剂、溶剂)
曝光:用掩模版掩膜,紫外线(UV)照射,掩模版镂空部分透过紫外线,其下方光刻胶被改性,非镂空部分没被改性。
显影:用显影液去除被改性的光刻胶。
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文不如表,表不如图,一张图了解
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刻蚀:通过某种方法,使膜脱离基板表面的过程,分为干刻、湿刻两种。
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干刻:主要有等离子体刻蚀(PE,惰性气体轰击表面+游离基反应)、化学干法刻蚀(CDE,经过辉光放电产生的游离基通入反应室,进行刻蚀)
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湿刻:基板置于化学药液中,通过化学反应去除多余膜层,形成图形。
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去除光刻胶:使用去胶液等将刻蚀时起保护作用的光刻胶去除的过程。分湿法去胶(去胶液、IPA处理)、干法去胶(等离子法)
检查:在刻蚀、显影等之后检查产品缺陷,以便在过程中发现问题,进行修复处理。
到这里,Array的流程就结束了
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接下来进入彩膜工序。
CF(彩膜)最主要的功能是实现液晶显示器件的彩色化,并满足分辨率、透过率、画质等规格要求,CF的整体结构如图所示。
CF工艺是以无碱玻璃为基底,按先后顺序依次制作黑色矩阵(Black Matrix,简称BM)、彩色色阻层(Color Resist,即RGB)、透明导电膜(Indium Tin Oxide,简称ITO)以及间隔柱结构(Photo Spacer,简称PS)。
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CF的结构和主要流程见下图
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CF的工艺流程
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