光刻机是一种半导体工艺设备，主要用于在半导体晶圆上进行微影、刻蚀等工艺过程。在半导体芯片的制造过程中，光刻机是非常重要的一种设备，它可以将图形投射到硅片上，并通过光刻胶和刻蚀等过程来制造出芯片上的微小图形和线路。光刻机的精度和稳定性对芯片制造的质量和产量都有着非常重要的影响。除了半导体工艺中的应用，光刻机还可以用于制造其他微电子器件、光学元件、MEMS器件等领域。