光刻胶（Photoresist）又称光致抗蚀剂,是通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。在光刻工艺过程中，用作抗腐蚀涂层材料。半导体材料在表面加工时，若采用适当的有选择性的光刻胶，可在表面上得到所需的图像。
厚胶Thick Resist，SU-8 3000系列，常见的有SU-83005/SU-83010/SU-83025/SU-83035/SU-83050等，单层厚度5-100um，推荐i-Line，也可用于E-beam，X-ray。SU-8 3000系列较SU-8 2000具有更好的基底粘附力，减少在工艺过程中产生内应力积累。
瑞禧WFF.2022.6