芯片作为一种高精度的电子元件，具有集成度高、生产线窄、水质要求高的特点。传统的超纯水制备工艺通常采用离子交换树脂，需要树脂再生，既消耗材料资源又消耗劳动力。经过多年实践，结合膜分离技术，采用反渗透、EDI装置和混合床模块化设计工艺制备超纯水，出水电阻率可达到18mΩ*cm(25℃)，满足芯片制造用水要求，为芯片成品质量提供有力保证。
芯片超纯水设备几乎可以完全去除水中的导电介质，并在很低程度上去除水中未分离的胶体物质、气体和有机物。在制备超纯水的过程中，无需酸碱再生，去除有害物质，减少繁琐的工艺程序，稳定连续生产18.2mΩ·CM超纯水，满足芯片生产用水的需要。
