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今天算是第三次使用一块新的二硼化钛靶材(烧结制备,导电良好),直流磁控溅射400W,10分钟后靶面刻蚀跑道区域零星打火,打火后该区域出现或明或暗的小条纹,过一会儿条纹会消失,后续打火依旧,打火瞬间电压降低。沉积结束后检查靶面无异常。请问这回事什么原因呢,是真空室脏异物导致?还是靶材本身成分不均匀,或者疏松气孔导致氧化呢?谢谢!


IP属地:辽宁来自Android客户端1楼2017-06-23 21:20回复
    可能是靶材本身問題,可以降低功率看看


    2楼2017-07-03 21:43
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      2025-06-15 05:23:52
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      什么靶材,多少钱一块?


      来自Android客户端3楼2017-07-04 21:08
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        问题解决,真空室有些脏。大功率情况下靶面温度升高,吸附性增强,将真空室内粉尘吸至靶面引起电荷聚集放电。


        IP属地:辽宁来自Android客户端4楼2017-07-06 23:36
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          看看是不是弧原的问题


          来自iPhone客户端5楼2017-07-12 06:01
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            这是因为是直流电源,对于化合物靶材,建议采用单级脉冲溅射电源或者射频电源。
            专业真空镀膜公司


            6楼2017-07-12 16:23
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