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靶材打火
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wubi2000
江湖少侠
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今天算是第三次使用一块新的二硼化钛靶材(烧结制备,导电良好),直流磁控溅射400W,10分钟后靶面刻蚀跑道区域零星打火,打火后该区域出现或明或暗的小条纹,过一会儿条纹会消失,后续打火依旧,打火瞬间电压降低。沉积结束后检查靶面无异常。请问这回事什么原因呢,是真空室脏异物导致?还是靶材本身成分不均匀,或者疏松气孔导致氧化呢?谢谢!
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IP属地:辽宁
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1楼
2017-06-23 21:20
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dsgowi
无名之辈
2
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可能是靶材本身問題,可以降低功率看看
2楼
2017-07-03 21:43
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2025-06-15 05:23:52
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青衫步履o1
后起之秀
7
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什么靶材,多少钱一块?
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Android客户端
3楼
2017-07-04 21:08
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wubi2000
江湖少侠
6
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问题解决,真空室有些脏。大功率情况下靶面温度升高,吸附性增强,将真空室内粉尘吸至靶面引起电荷聚集放电。
IP属地:辽宁
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4楼
2017-07-06 23:36
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舜子的顺利
武林新贵
8
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看看是不是弧原的问题
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5楼
2017-07-12 06:01
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木东6868
初涉江湖
1
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这是因为是直流电源,对于化合物靶材,建议采用单级脉冲溅射电源或者射频电源。
专业真空镀膜公司
6楼
2017-07-12 16:23
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